產(chǎn)品中心
DEM4000
- 適用領(lǐng)域：半導(dǎo)體掩膜板制作、晶圓圖形直接成像
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技術(shù)特點(diǎn)
- 空間光調(diào)制技術(shù)
動(dòng)態(tài)掃描技術(shù)
實(shí)時(shí)聚焦
高產(chǎn)能、高精度
易用性強(qiáng)
操作簡(jiǎn)單
設(shè)備參數(shù)
- 最小線寬：500nm
線寬均勻性：50nm
套刻精度：150nm
網(wǎng)格精度：25nm
拼接誤差：100nm
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